阵列和镜像

smellycat solidworks技巧阵列和镜像已关闭评论

阵列按线性或圆周阵列复制所选的源特征。您可以生成线性阵列、圆周阵列、曲线驱动的阵列、填充阵列,或使用草图点或表格坐标生成阵列。

镜向复制所选的特征或所有特征,将它们对称于所选的平面或面进行镜向。

要将 SOLIDWORKS 的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸给所有阵列实例和镜向特征,在 PropertyManager 中选择 延伸视象属性 选项。

对于多实体零件,您可使用阵列或镜向特征来阵列或镜向同一文件中的多个实体。

阵列和镜像 阵列和镜像
绕基准面镜向多实体零件

展开或镜像特征将单个实体拆分为多个实体时,您可选择要保留的实体并指定将哪些配置保持最新。

软件支持阵列和镜向特征的完整预览。
阵列和镜像

控制和修改阵列

几何体阵列

几何体阵列能够复制,但不能解出阵列特征。 终止条件及计算会被忽略。 每个实例是源特征的面和边线准确的复制。

几何体阵列选项可用于除可变阵列之外的所有阵列特征。 使用几何体阵列可以提高阵列特征的重建速度,阵列特征的源特征使用的是参考几何体。

阵列和镜像
在这个样例中,切除使用到指定面指定的距离终止条件来拉伸,底面被选择。
阵列和镜像
几何体阵列 未被选中时,在每个实例从所选平面等距同样的距离(终止条件被解出)。
阵列和镜像
几何体阵列 被选中时,实例是源特征的准确的复制(终止条件被忽略)。
对于具有与零件其它部分合并的特征,您不能生成几何体阵列。
阵列和镜像

几何体阵列必须取消选中才能生成阵列。
阵列和镜像

 

源特征

在线性阵列,圆周阵列,镜向特征,及镜向阵列中的原始特征称为源特征。您可以编辑源特征。

要编辑原始特征的定义:

  1. 用右键单击一个阵列或镜向实例,然后选择编辑源特征
  2. 改变所需的参数。
  3. 单击 阵列和镜像

 

阵列的系统选项

高亮显示源特征

要更容易地识别阵列中的源特征,请单击 FeatureManager 设计树中的阵列。 源将使用与阵列实例颜色不同的颜色来突出显示。

阵列实例以 所选项目 1 颜色突出显示;源以 所选项目 2 颜色突出显示。 您可以通过单击 工具 > 选项 > 颜色 来更改这些颜色。

显示含阵列信息的工具提示

您可以显示关于阵列的工具提示。

设置此系统选项时,如果将鼠标停放在 FeatureManager 设计树中的阵列名称上,则会显示信息。

关于阵列的信息包括:

  • 图案名称
  • 图案类型
  • 用于创建阵列的所有源
  • 方向 1 和方向 2 的间距和实例数
  • 跳过的实例
  • 更改的实例

单击 工具 > 选项。 在 系统选项 选项卡上,单击显示,然后选择或清除 显示阵列信息工具提示

选择要跳过的实例

您可使用框和套索选取以添加或移除阵列中要跳过的实例。

框和套索选取可用性:

阵列类型 零件特征 阵列零部件 装配体特征
圆形 阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
曲线驱动 阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
填充 阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
线性 阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
阵列驱动 阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
草图驱动 要跳过的实例不可用 阵列和镜像 要跳过的实例不可用
该选择对草图阵列无效。

要使用实例窗口选择以跳过:

  1. 创建或编辑阵列特征。
  2. 在 PropertyManager 中,展开要跳过的实例
    选择星球显示所有阵列实例。
    阵列和镜像
  3. 在图形区域中,右键单击并单击套索选取,然后选择要跳过的实例。

    星球变为白色,表示它们已跳过阵列。 实例在要跳过的实例下列出。

    阵列和镜像阵列和镜像

  4. 单击 阵列和镜像
    • 如果选择包含跳过和非跳过的实例,则软件将从其当前状态切换实例。 跳过的实例变成非跳过的实例,反之亦然。
    • Shift + 仅选择将实例添加到要跳过的实例
    • Alt + 仅选择将实例从要跳过的实例中移除。
    • 实例的选择星球必须完全在选择区域内以从要跳过的实例中添加或移除。

随形变化

选择随形变化选项让阵列实例重复时改变其尺寸。

在此例中,源(切除-拉伸)特征往右阵列三次。 您保留阵列实例中源特征的某些尺寸,但允许阵列实例的高度可变化。

阵列和镜像 阵列和镜像 阵列和镜像
源特征 随形变化

根据源特征的尺寸和几何关系,实例保留与倾斜边线的几何关系,及到底边线的宽度和尺寸。高度将有变化,因为您在源特征中没有标注其尺寸。

随形变化 已清除。

实例保持不变,无论定义几何体如何。

欲生成变化的阵列:

  1. 生成基体零件。此范例使用一拉伸三角形,您可在上绘制并阵列一切除-拉伸特征。
  2. 为源特征在基体零件上生成一草图。在此例中,绘制一多边形来生成切除-拉伸特征。观察以下建议:
    • 特征草图必须限制在定义阵列实例变化的边框内。例如,在图示的阵列中,源特征倾斜的顶边平行并标注尺寸于基体零件的倾斜边。
    • 特征草图应该为完全定义。
  3. 标注在草图中未变化的测量的尺寸,并确定不要标注在阵列实例中变化的测量的尺寸。

    阵列和镜像

    在此例中,务必设定这些几何关系和尺寸,因为它们在阵列实例中保持不变:

    • 设定顶层草图线与零件和尺寸(10 mm)的倾斜边线平行。
    • 标注零件底层草图线到底层边线的尺寸(7 mm)。
    • 标注草图宽度的尺寸 (6 mm)。
    不要标注草图高度的尺寸,因为您想使之在阵列实例中变化。
  4. 标注草图左下顶点到零件左竖直边线的尺寸 (8 mm)。以后为阵列方向使用此尺寸。
  5. 单击特征工具栏中的拉伸切除 阵列和镜像,或单击插入 > 切除 > 拉伸并生成源特征。
  6. 在 FeatureManager 设计树中选择切除-拉伸特征。
  7. 单击特征工具栏中的线性阵列 阵列和镜像,或单击插入 > 阵列/镜向 > 线性阵列
  8. 在 PropertyManager 中的方向 1 下:
    • 阵列方向选择驱动尺寸 (8 mm)。如有必要,单击反向 阵列和镜像 往右阵列实例。
    • 间距实例数 设定数值。
    注意预览显示三个与源特征匹配的实例。
  9. 选项下选择随形变化
    预览消失。
  10. 单击 阵列和镜像
    阵列实例的高度有变化,而其它几何关系被保留。
    阵列和镜像

 

实例数无限制

阵列中的实例数不具有上限。 您可输入任意数值的实例。

当您创建具有大量实例的阵列时,将出现一个对话框提示您确认或修订该数值。 具有大量实例的阵列往往会对性能产生影响。

此功能适用于零件、特征和装配体中的所有阵列。

阵列删除

删除阵列实例

删除阵列实例:

  1. 选择您想要删除的阵列实例面。
    不能选择边线,因为边线被一个以上特征共享。
  2. Delete 键。
  3. 阵列删除对话框中选择以下选项之一:
    选项 描述
    删除阵列实例 仅删除所选的实例。被删除的实例位置显示在删除的实例方框中。
    删除阵列特征 删除所有阵列特征,但不包括原始特征。
  4. 单击确定进行删除,或单击取消退出对话框。

恢复删除的阵列实例

恢复删除的阵列实例:

  1. 用右键单击阵列特征,然后选择编辑特征
  2. 可跳过的实例框中选取删除实例坐标,然后按 Delete 恢复该实例。
  3. 单击 阵列和镜像

删除由表格驱动的阵列实例

要删除由表格驱动的阵列实例:

  1. 在 FeatureManager 设计树中用右键单击阵列,然后选择编辑特征
  2. 由表格驱动的阵列对话框中,单击您想删除的阵列编号以高亮显示 X-Y 坐标。
  3. Delete
  4. 单击确定

删除由草图驱动的阵列实例

要删除由草图驱动的阵列实例:

  1. 在 FeatureManager 设计树中,用右键单击由草图驱动的阵列所使用的草图,然后选取编辑草图
  2. 选择想要删除的草图点并按 Delete 键。
  3. 单击重建 以关闭草图并更新阵列。

从多特征阵列中删除特征

从多特征阵列中删除特征:

  1. 在 FeatureManager 设计树中,选择您要删除的特征。
  2. Delete
  3. 如果可以的话,在删除确认对话框中,选中同时删除内含的特征复选框。
  4. 单击确定以从阵列中删除该特征并且关闭对话框。
    特征从阵列中被删除。

阵列的阵列

对于多实体零件,您可生成包括一些或所有您用来生成原有多实体零件阵列的多实体零件的阵列。您可使用任何阵列,如线性、圆周、草图驱动的阵列,等等。

在多实体零件环境中,对于阵列的阵列,您与在单一实体环境中一样的选项。例如,您可使用一个以上方向、跳过实例,等等。

阵列和镜像 阵列和镜像
从现有线性阵列阵列。选择了一些实体和单一方向。

生成阵列的阵列:

  1. 单击特征工具栏中的一阵列工具,或单击插入 > 阵列/镜向,然后选择一阵列工具(线性、圆周或曲线驱动的阵列)。您还可以使用用 X-Y 坐标(由表格驱动的阵列)或草图点生成的阵列。
  2. 执行以下操作之一:
    • 对于单一实体阵列,在 FeatureManager 设计树中选取阵列特征,或在模型中的一个阵列实例上选择一个面。
    • 对于多实体零件阵列,在要阵列的实体 阵列和镜像 下,从现有阵列中选择您想包括在新的阵列中的单独的实例。
  3. 根据您生成的阵列类型继续执行。

重心

如果您选择重心作为由表格驱动的阵列或由草图驱动的阵列的参考点,系统会根据源特征的类型决定重心。

  • 对于圆柱、圆锥或旋转特征,重心是旋转的轴线和阵列的 X-Y 基准面的交叉点。
  • 如果草图由直线和圆弧组成(例如矩形和椭圆形),而且如果草图基准面平行于 X-Y 基准面,则重心即定义为草图的重心。
  • 对于其它任何情况,重心是源特征的面的重心。
  • 如果有一个以上的源特征,请使用第一个源特征的重心。
  • 如果源特征是由包括多个轮廓的草图生成,请使用最大的封闭轮廓的重心。

变化的尺寸阵列

线性圆周阵列 PropertyManagers 中的变化实例选项允许您更改特征阵列中实例的尺寸和位置。

您可以更改一系列实例的尺寸,从而使各实例大于或小于之前尺寸。 您还可以更改阵列中单个实例的尺寸,并更改该实例相对于阵列源特征的位置。

对于线性阵列,您可以更改阵列中列和行之间的间距。 对于圆周阵列,您可以排列实例,从而使其更接近或更疏远。

仅当您针对阵列实例从图形区域选择特征时此选项才可用。

更改间距和特征尺寸

在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。

要更改线性阵列:

  1. 在 FeatureManager 设计树中,选择 Lpattern 然后单击编辑特征 阵列和镜像
  2. 在 PropertyManager 中,单击要改变的实例
  3. 要为方向 1 添加间距增量,在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 阵列和镜像 中输入值。 值可为正值或负值。

    如果值为正值,软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值,阵列中每个实例之间的间距会累积减少。

    例如,如果实例之间的间距50mm,且您为方向 1 间距增量添加 20mm,则第二个实例与第一个实例相距 70mm,第三个实例与第二个实例相距 90mm,依次类推。

    您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。
  4. 要为方向 1 添加特征尺寸,在图形区域单击源特征尺寸。
    一个表格会出现在框中。
  5. 增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。

    您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。

    在以下示例中,源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm,且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm28mm38mm48mm

    阵列和镜像

  6. 如有必要,为方向 2 增量重复上述步骤。
  7. 单击 阵列和镜像

修改实例

您可修改单个阵列实例。

要修改实例:

  1. 在 FeatureManager 设计树中,选择 Lpattern 然后单击编辑特征 阵列和镜像
  2. 在实例标记上,左键单击并选择已修改的实例

    在图形区域中显示标注并以阵列格式(例如 (5,1))列出实例。

  3. 在标注中键入一个值以覆盖间距和特征尺寸,然后按 Enter

    实例标记的大小和颜色会更改以表明实例已修改。 PropertyManager 中已修改的实例框也会列出实例。

    单个实例的覆盖值仅保留在实例标注中。 PropertyManager 中变化的实例框中的值仅反映阵列增量。
  4. 要编辑覆盖值,左键单击并选择编辑已修改的实例

移除已修改的实例

您可以使用 PropertyManager 中已修改的实例框移除修改实例并恢复至其初始状态。

  1. 在 FeatureManager 设计树中,选择 Lpattern 然后单击 编辑特征 阵列和镜像
  2. 在 PropertyManager 的 已修改的实例 下,右键单击实例并选择 删除
    要移除所有实例覆盖,右键单击已修改的实例框并选择清除选择
  3. 单击 阵列和镜像

 

 

 
  • 本文由 smellycat Published on 2017年6月15日